反应釜污垢的清洗方法 一、化学清洗 首先要知道设备内的垢样成分，是取样分析。确定污垢成分后先做试验，选用清洗剂同时通过试验确定对设备金属不会造成腐蚀。然后通过现场架设临时循环装置将清洗液在设备内循环流动，洗去污垢。 二、机械清洗 采用高压清洗装置，将150-200MPa的高压水通过喷头冲刷污垢。 两种方法各有利弊，化学清洗用工少，清洗时间短，清洗彻底，但是可能会造成设备被腐蚀；机械清洗不会对设备产生腐蚀，对硬垢可以有效清洗，但是用时长、劳动强度大。因此化学清洗应用在污垢较软、薄的工况，机械清洗应用在污垢硬、厚的工况。
反应釜安装注意事项 1.反应釜控制器:控制器应放置在操作平台上，工作环境温度10-40℃，相对湿度小于85%，周围介质不得含有导电粉尘和腐蚀性气体。 2.釜盖设备及密封:釜体及釜盖选用锥形面和弧面线接触密封方式，并拧紧主螺栓，使其彼此紧密，密封效果好。拧紧主螺栓时，不得超过80-120nm的拧紧力矩，以免挤压和过载损坏密封面，密封面应单独维护。 安装壶盖时，应缓慢上下启动壶盖，防止壶体与壶盖之间的密封面碰撞。主螺母应多次对称、逐步旋紧，旋紧力要均匀，才能达到良好的密封效果。 3.正负极螺母的连接:只有正负极螺母才能在正负极螺母的连接处正确旋转。两侧圆弧面不得相对翻转。当所有的螺纹接头安装，油或油协调石墨应涂层，以防止扣押。 4.阀的应用:针形阀采用线密封，通过悄悄滚动针，紧紧压紧密封面，可以通过良好的密封效果，防止过度用力，防止损坏密封面。
搅拌轴顶部插入式反应釜的密封问题 1、由于密封件放置在釜的上部和气相空间中（液相仅在材料充满时），由釜的机械密封件密封的介质主要是气体而不是液体。因此，从密封端面的工作状态来看，与泵密封相比，润滑条件差，并且容易处于干摩擦状态，导致端面磨损，因此一定的润滑冷却方法是需要。同时，由于强烈的气体泄漏，除了水压试验之外，还需要诸如石墨环的具有大空隙率的材料来增加气密性试验。 2、由于工艺条件的变化，反应器的压力和温度通常不恒定并且经常波动。因此，设计应确保压力要求（高压操作，低压操作和真空操作）也能满足使用要求。 3、将顶部插入搅拌轴的垂直安装中，并且通常以悬臂状态搅拌下端。由于纵横比大，不易确保加工和安装精度，并且容易发生大的挠曲。并且在操作过程中，搅拌叶片不均匀;液面太低或有故障；喂料不均匀，或反应控制不好；压力和温度波动；压力和温度的变化引起搅拌轴和壶体的变形；搅拌轴突然的速度变化或导致聚合物粘度上升的温度下降会加剧搅拌轴的振动。 为了解决这个问题，密封件设置有相对不振动的工作环境，使得密封操作稳定。通常，中间轴承和底部轴承用于限制运动，以便小化轴摆动对密封性能的影响。因此，水壶的机械密封对于轴的径向跳动的要求比泵的机械密封要低得多。当轴直径为65mm时，径向跳动<0.5mm;当轴直径>65mm时，径向跳动<1mm;同时，设计应考虑移动环和静环有更好的浮动和跟进。 4、水壶机械密封通常用于大直径和低速度。随着科学研究和生产的发展，反应器设备趋于庞大。釜的容积不断增加，搅拌轴直径超过300mm。但是，搅拌轴的转速通常较低，一般低于200·300r/min，大使用范围为500r/min。当直径大时，密封环容易变形，并且难以确保密封端面的平坦度等。当直径大时，硬密封环通常使用表面复合材料。
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